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技術文章
TECHNICAL ARTICLES在透射電子顯微鏡（TEM）和掃描電鏡（SEM）的高分辨率成像領域，樣品制備是決定成像成敗的首要環節。美國RMC超薄切片機作為全球頂尖的制樣設備，其核心價值在于能夠將生物、材料等樣品精準地切割成厚度僅為納米級（通常50-100納米）的超薄切片。它的使用特點集中體現了精度、高度穩定與人性化設計的融合，是獲取高質量電鏡圖像的基石。一、核心特點：納米級進給與杰出的切割精度美國RMC超薄切片機最杰出的特點是其機械系統的精度。它通過精密的微進給機制，能夠實現納米級（通常1-10納米）的厚...
永新顯微鏡通過多類型產品適配教學與科研場景，以模塊化設計、高分辨率成像、人性化操作及多模態成像技術為核心，滿足從基礎教學到前沿科研的全場景生物觀察需求。以下從產品類型、性能特點及應用場景三方面展開分析：一、產品類型覆蓋全場景需求永新顯微鏡針對教學與科研的不同需求，推出多類型產品：教學專用型NIB610倒置生物顯微鏡：專為教學設計，操作旋鈕大且防滑，機身高度適配學生坐姿，刻度標識清晰，降低操作難度。其成像清晰穩定，低倍下可觀察植物細胞壁、動物細胞膜等基礎結構，高倍下可分辨線粒體...
在精密制造、材料研發、電子元件等領域，高效、精準的檢測技術是保障產品質量與研發進度的關鍵。面對不同場景下的測量需求——無論是追求極速數據采集，還是需要大視野覆蓋，亦或是適配自動化生產線，Sensofar始終以技術創新為核心，打造出四大系列高性能檢測設備，滿足行業多樣化需求。01Slynx2：多技術融合，效率再升級作為高效檢測的代表，Slynx2創新性地整合了三種核心測量技術：干涉技術、共聚焦技術與AI多焦面疊加技術。這三種技術并非簡單疊加，而是形成“速度遞進”的協作模式——后...
分辨率的革命：為何電子能超越光的極限？談論顯微鏡時，人們常聚焦“放大倍率”，但真正決定觀測能力的核心是分辨率——即區分兩個相鄰點的最小距離。就像在夜色中辨認汽車，最初只能看到一團光暈，直到距離足夠近，才能分清兩個獨立的車燈，這個“分清”的臨界點，便是分辨率的體現。圖光譜示意圖1873年，物理學家恩斯特?阿貝提出，光學顯微鏡的分辨率受限于光的波長和物鏡數值孔徑。這意味著，成像“工具”的波長越短，能觀測的結構就越精細。而可見光400-700納米的波長，讓光學顯微鏡的分辨率難以突破...
在精密制造、半導體研發、光學元件檢測等領域，微米甚至納米級的表面形貌、厚度差異都可能直接影響產品性能。如何對這些微觀特征實現快速、精準的測量？Sensofar共聚焦白光干涉儀憑借“共聚焦+白光干涉”的復合技術，成為兼顧效率與精度的“測量利器”，且操作流程簡單直觀，即使是新手也能快速掌握。一、原理：雙技術融合，精準捕捉微觀細節Sensofar共聚焦白光干涉儀的核心優勢在于“共聚焦顯微鏡”與“白光干涉儀”的協同工作。共聚焦技術通過點光源照明樣品表面，并利用針孔濾除焦平面以外的雜散...
奧林巴斯超景深顯微鏡作為工業檢測與科研領域的核心設備，其功率參數不僅反映了設備的能耗特性，更與光學系統設計、照明效率及自動化控制技術密切相關。通過整合多款型號的技術參數，可系統解析其功率配置的底層邏輯。一、光源系統功率：LED技術的能效突破奧林巴斯超景深顯微鏡普遍采用高亮度LED作為照明光源，其功率設計呈現“低功耗、長壽命”特征。DSX1000系列進一步優化能效，通過16倍光學變焦與4分區LED環繞照明設計，在保持200萬像素CMOS傳感器成像質量的同時，將光源功率控制在合理...
01革新冶金工業：低碳鉻鐵冶煉新工藝綠色革命傳統工藝依賴焦炭還原，每噸鉻鐵排放5.5噸CO?。本研究以1:1配比的FeSiCr粉塵（工業廢料）與FeAlSiCa合金為復合還原劑，在1650℃空氣氣氛下實現自供熱反應。10%過量還原劑方案下，Cr?O?殘留量≤0.9%，鉻回收率達86%，較傳統工藝提升10個百分點。值得關注的是，反應生成含氮2.6-3.6%的低碳合金，氮元素源自空氣參與，通過ZEM電鏡EDS能譜精準驗證了Cr-V-N氮化物相的存在。02電鏡賦能：微觀洞察驅動工藝...
在可再生能源與下一代電力電子設備領域，第三代半導體材料的作用日益凸顯。與傳統硅基材料相比，這些先進化合物在高溫、高壓和強輻射環境下表現出更穩定的性能，其中合成鉆石（又稱人造鉆石）因其獨特的物理特性成為研究熱點。合成鉆石脫穎而出得益于以下幾項特性：耐熱性：能夠承受極duan高溫環境。導熱性：具有優異的導熱性能，有助于器件散熱。光學透明度：對光學頻率具有高度透明度，適用于光電設備。輻射硬度：在輻射環境下仍能保持結構完整性。然而，合成鉆石在生長過程中即使出現微小缺陷也會影響其性能。...