在微納制造與精密測量領域，表面形貌的納米級精度檢測是確保產品質量與工藝可靠性的關鍵。臺階儀作為這一領域的核心設備，通過探測樣品表面的微觀起伏，為半導體、新材料研發及生物醫藥等行業提供至關重要的數據支持。本文將系統解析澤攸臺階儀的工作原理，并介紹其不同類型與應用特點。
 

　　澤攸臺階儀工作原理與類型

　　一、工作原理

　　澤攸臺階儀是一種基于白光干涉原理的微納表面形貌測量儀器。其核心工作流程為：光源發出的白光經分光鏡分成兩束，一束照射樣品表面，另一束照射參考鏡面，兩束光反射后發生干涉。當樣品表面與參考鏡面光程差接近零時，產生干涉條紋，通過精密壓電陶瓷驅動樣品臺垂直掃描，探測器記錄干涉信號隨高度的變化，經算法處理即可重建出三維表面形貌，實現納米級臺階高度測量。

　　二、主要類型

　　根據應用場景和性能差異，澤攸臺階儀主要分為：

　　1.標準型臺階儀：采用接觸式探針測量，適用于常規微米級臺階高度檢測，測量范圍大（可達數毫米），但可能對軟質樣品產生劃痕。

　　2.非接觸式白光干涉臺階儀：采用光學干涉原理，無接觸測量，避免樣品損傷，分辨率可達亞納米級，適用于精密光學元件、MEMS器件等表面形貌分析。

　　3.高精度型臺階儀：配備高穩定性環境控制系統和減震平臺，適用于超精密測量和科研領域，重復性精度優于0.1nm。

　　三、應用領域

　　澤攸臺階儀廣泛應用于半導體工藝監控、薄膜厚度測量、MEMS器件表征、光學元件檢測、材料表面粗糙度分析等領域，是微納制造和質量控制的關鍵設備。